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產(chǎn)品系列

ITO靶材/粉體

ITO靶材是銦錫氧化物功能陶瓷材料，主要用于磁控濺射制備ITO透明導(dǎo)電薄膜。
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AZO靶材/粉體

AZO靶材是鋅鋁氧化物功能陶瓷材料，主要用于磁控濺射制備AZO透明導(dǎo)電薄膜。
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TZO靶材/粉體

以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層，從而制備出高純度、高致密度TZO靶材。
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氧化鋯靶材

以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層，從而制備出高純度、高致密度ZrOx靶材。
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SiZr旋轉(zhuǎn)靶

以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層，從而制備出高純度、高致密度SiZr靶材。
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SiAl旋轉(zhuǎn)靶

以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層，從而制備出高純度、高致密度SiAl靶材。
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Si旋轉(zhuǎn)靶

以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層，從而制備出高純度、高致密度Si靶材。
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氧化鈮靶材

以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層，從而制備出高純度、高致密度NbOx旋轉(zhuǎn)靶材。
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旋轉(zhuǎn)銀靶材

以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層，從而制備出高純度、高致密度Ag靶材。
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鈦邇賽產(chǎn)品優(yōu)勢

成熟的技術(shù)
掌握原料粉體的合成技術(shù)，以及外購粉體的二次處理技術(shù)(如改善團聚、燒結(jié)活性)。
開發(fā)能力
具有成熟的量產(chǎn)技術(shù)和Know-How，具備薄膜金屬化工藝及靶材的開發(fā)能力。
產(chǎn)品優(yōu)勢
強度高、絕緣性好、導(dǎo)熱和耐熱性能優(yōu)良、熱膨脹系數(shù)小、化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點。
工藝經(jīng)驗
技術(shù)和生產(chǎn)管理團隊具有豐富的漿料制備、流延成型、燒結(jié)、陶瓷金屬化經(jīng)驗。