Si旋轉(zhuǎn)靶
產(chǎn)品介紹
以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層，從而制備出高純度、高致密度Si靶材。
應(yīng)用領(lǐng)域
用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光學(xué)玻璃，觸摸屏之AR膜系，Low-E鍍膜玻璃，半導(dǎo)體電子，平面顯示，觸摸屏。
參數(shù)規(guī)格
| 組份（wt%） | Si |
| 純度（%） | ≥99.99 |
| 密度（g/cm3） | ≥2.2 |
| 靶材尺寸 | 按照圖片要求加工 |
| 背管材質(zhì) | 304/316L不銹鋼（無磁） |
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