氧化鋯靶材
產品介紹
以等離子體為熱源將相應粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層,從而制備出高純度、高致密度ZrOx靶材。
應用領域
光學玻璃AR膜系
Low-E鍍膜玻璃
工具鍍膜和裝飾鍍膜
產品介紹
以等離子體為熱源將相應粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層,從而制備出高純度、高致密度ZrOx靶材。
應用領域
光學玻璃AR膜系
Low-E鍍膜玻璃
工具鍍膜和裝飾鍍膜
組份(wt%) | 氧化鋯 |
純度(%) | ≥99.9 |
密度(g/cm3) | ≥5.4 |
雜質含量 | Al≤100 Cr≤50 Ti≤100 Fe≤200 |
雜質總和≤1000 | |
電阻率(Ω·cm) | ≤0.5 |
背管材質 | 選用304/316L不銹鋼(無磁) |
靶材尺寸 | 按照圖紙要求加工 |
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