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氧化鋯靶材

氧化鋯靶材


產品介紹

以等離子體為熱源將相應粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層,從而制備出高純度、高致密度ZrOx靶材。


應用領域

光學玻璃AR膜系

Low-E鍍膜玻璃

工具鍍膜和裝飾鍍膜


參數規(guī)格

組份(wt%)氧化鋯
純度(%)≥99.9
密度(g/cm3)≥5.4
雜質含量Al≤100 Cr≤50 Ti≤100 Fe≤200
雜質總和≤1000
電阻率(Ω·cm)
≤0.5
背管材質選用304/316L不銹鋼(無磁)
靶材尺寸
按照圖紙要求加工


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